Facebook Twitter Youtube Instagram RSS

Ministerio de Ciencia e Innovación - Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC) - Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas

Subministrament i instal·lació de tres sistemes de forns tubulars horitzontals per a recuites de capes, creixement per oxidació tèrmica i dipòsit per LPCVD necessaris per a processar oblies de fins a 150 mil·límetres destinats a l'Institut de Microelectrònica de Barcelona

Identificador
20201120L8
Expedient
2087/21
Finalització de presentació de sol·licituds

12/01/2021 14:00 h - Termini anterior: 16/12/2020

Tipus de contracte
Subministraments
Tipus de procediment
Obert
Matèries
Equipament, material i productes sanitari i de laboratori
Accés al Perfil de contractant
https://bit.ly/3iAuSDp
Adjudicatari IVA exclòs % IVA inclòs Data adjudicació Data formalització Lot Licitadors
Tempress Systems BV 2
Data de publicació Descripció Més informació
Convocatòria de licitació PDF Subministrament i instal·lació de tres sistemes de forns tubulars horitzontals per a recuites de capes, creixement per oxidació tèrmica i dipòsit per LPCVD necessaris per a processar oblies de fins a 150 mil·límetres destinats a l'Institut de Microelectrònica de Barcelona
Convocatòria de licitació PDF Subministrament i instal·lació de tres sistemes de forns tubulars horitzontals per a recuites de capes, creixement per oxidació tèrmica i dipòsit per LPCVD necessaris per a processar oblies de fins a 150 mil·límetres destinats a l'Institut de Microelectrònica de Barcelona Enllaç a Subministrament i instal·lació de tres sistemes de forns tubulars horitzontals per a recuites de capes, creixement per oxidació tèrmica i dipòsit per LPCVD necessaris per a processar oblies de fins a 150 mil·límetres destinats a l'Institut de Microelectrònica de Barcelona
Ampliació de termini PDF Subministrament i instal·lació de tres sistemes de forns tubulars horitzontals per a recuites de capes, creixement per oxidació tèrmica i dipòsit per LPCVD necessaris per a processar oblies de fins a 150 mil·límetres destinats a l'Institut de Microelectrònica de Barcelona
Formalització PDF Subministrament i instal·lació de tres sistemes de forns tubulars horitzontals per a recuites de capes, creixement per oxidació tèrmica i dipòsit per LPCVD necessaris per a processar oblies de fins a 150 mil·límetres destinats a l'Institut de Microelectrònica de Barcelona Enllaç a Subministrament i instal·lació de tres sistemes de forns tubulars horitzontals per a recuites de capes, creixement per oxidació tèrmica i dipòsit per LPCVD necessaris per a processar oblies de fins a 150 mil·límetres destinats a l'Institut de Microelectrònica de Barcelona
Formalització PDF Subministrament i instal·lació de tres sistemes de forns tubulars horitzontals per a recuites de capes, creixement per oxidació tèrmica i dipòsit per LPCVD necessaris per a processar oblies de fins a 150 mil·límetres destinats a l'Institut de Microelectrònica de Barcelona

Resolt