Facebook Twitter Youtube Instagram RSS

Universitat Politècnica de Catalunya (UPC)

Subministratment d'un dipòsit químic en fase vapor assistit per plasma de radio-freqüència (Plasma Enhanced Chemical Vapor Depisition-PECVD) per al Departament d'Enginyeria Electrònica de la UPC

Identificador
20090427L15
Expedient
CONSU710150CO2009059
Finalització de presentació de sol·licituds
Import
205.000,00 € IVA exclòs
Matèries
Equipament, material i productes sanitari i de laboratori
Data de publicació Descripció Més informació
Convocatòria de licitació PDF Subministratment d'un dipòsit químic en fase vapor assistit per plasma de radio-freqüència (Plasma Enhanced Chemical Vapor Depisition-PECVD) per al Departament d'Enginyeria Electrònica de la UPC Enllaç a Subministratment d'un dipòsit químic en fase vapor assistit per plasma de radio-freqüència (Plasma Enhanced Chemical Vapor Depisition-PECVD) per al Departament d'Enginyeria Electrònica de la UPC
Adjudicació PDF Subministratment d'un dipòsit químic en fase vapor assistit per plasma de radio-freqüència (Plasma Enhanced Chemical Vapor Depisition-PECVD) per al Departament d'Enginyeria Electrònica de la UPC Enllaç a Subministratment d'un dipòsit químic en fase vapor assistit per plasma de radio-freqüència (Plasma Enhanced Chemical Vapor Depisition-PECVD) per al Departament d'Enginyeria Electrònica de la UPC

Resolt