Generalitat de Catalunya - Agència Catalana de Cooperació al Desenvolupament (ACCD)
Subministrament d'un sistema de dipòsit químic en fase de vapor de gran àrea de substrat per al creixement de nanòfils de silici/germani
- Identificador
- 20110122L1
- Expedient
- 2011/008
- Finalització de presentació de sol·licituds
- Import
- Termini de presentació de propostes: fins a les 12 hores del 17 de març de 2011
- Matèries
- Equipament, material i productes sanitari i de laboratori