Facebook Twitter Youtube Instagram RSS

Generalitat de Catalunya - Agència Catalana de Cooperació al Desenvolupament (ACCD)

Subministrament d'un sistema de dipòsit químic en fase de vapor de gran àrea de substrat per al creixement de nanòfils de silici/germani

Identificador
20110122L1
Expedient
2011/008
Finalització de presentació de sol·licituds
Import
Termini de presentació de propostes: fins a les 12 hores del 17 de març de 2011
Matèries
Equipament, material i productes sanitari i de laboratori
Data de publicació Descripció Més informació
Convocatòria de licitació PDF Subministrament d'un sistema de dipòsit químic en fase de vapor de gran àrea de substrat per al creixement de nanòfils de silici/germani Enllaç a Subministrament d'un sistema de dipòsit químic en fase de vapor de gran àrea de substrat per al creixement de nanòfils de silici/germani
Adjudicació PDF Subministrament d'un sistema de dipòsit químic en fase de vapor de gran àrea de substrat per al creixement de nanòfils de silici/germani Enllaç a Subministrament d'un sistema de dipòsit químic en fase de vapor de gran àrea de substrat per al creixement de nanòfils de silici/germani
Correcció d'errades PDF Subministrament d'un sistema de dipòsit químic en fase de vapor de gran àrea de substrat per al creixement de nanòfils de silici/germani
Correcció d'errades PDF Subministrament d'un sistema de dipòsit químic en fase de vapor de gran àrea de substrat per al creixement de nanòfils de silici/germani Enllaç a Subministrament d'un sistema de dipòsit químic en fase de vapor de gran àrea de substrat per al creixement de nanòfils de silici/germani

Resolt